Впродовж десяти років Canon розробляла технологію нанодруку чіпів, яка не передбачає використання проєкції фотошаблонів на кремнієву пластину. Варто зазначити, що обладнання для нанодруку призначене для створення порівняно невеликих партій чипів, і не може претендувати на суперництво із системами ASML у масовому виробництві.

Поступаючись у продуктивності традиційного фотолітографічного обладнання, нове технологічне рішення має низку переваг, за словами генерального директора Canon Фудзіо Мітараї.

У порівнянні з обладнанням ASML для випуску 5 нм чіпів, пропоновані Canon машини в 10 разів дешевші, як вважає керівник компанії. Остаточного рішення щодо цінової політики поки що не прийнято, але цілком очевидно, що новий тип технологічного обладнання Canon зробить випуск чіпів більш доступним для невеликих компаній.

Навіть великі контрактні виробники зможуть охочіше братися за невеликі партії виробів, використовуючи обладнання Canon. Обладнання Canon споживає вдесятеро менше електроенергії, ніж ASML, що використовується для EUV-літографії.

У часи боротьби за екологію це важливо, та й витрати на електроенергію як такі теж вдасться знизити.